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半導體奈米技術(精)(3版1刷)
Lithographic Technologies for Semiconductors
作者：
龍文安
分類：
工業•工程
／
電子•電機
出版社：
五南文化
出版日期：2010/7/8
ISBN：9789571159362
書籍編號：kk0272013
頁數：1008
定價：
1200
元
優惠價：
9
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1080
元
書價若有異動，以出版社實際定價為準
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內容簡介
作者介紹
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半導體奈米技術(精)(3版1刷) 半導體製程已進入奈米線幅，而廣義微影技術為半導體製程之核心，惜國內尚無中文微影技術專書，因此決定教研之餘撰寫本書，以彌補此缺憾與空白，並為推動科技中文化，略盡個人棉薄。 本書重點在微影技術原理與概念之說明，而不在生產線上實務細節之描述。內容包括微影技術全部重要內涵，例如微影製程、微影光學、主要微影方法、其他微影方法、圖罩與圖規、阻劑、解像度增進技術、銅互連線、化學機械研磨、電漿蝕刻與光學微影模擬。基於多年在交通大學應用化學研究所之教學經驗，本書亦包含瞭解微影技術必要之矽製程背景知識與基礎光學。 末來數年，半導體量產線幅當推進至45-32-22奈米技術節點，光學微影製程之難度日益增加，對製程工程師之挑戰亦日益升高。本書對相關領域讀者應有所助益與參閱價值。 目錄 第一章 背景知識 第二章 微影緒論 第三章 微影製程概述 第四章 基礎光學 第五章 微影光學 第六章 主要微影方法 第七章 其他微影方法 第八章 圖罩與圖規 第九章 阻劑化學 第十章 解像度增進技術 第十一章 銅互連線 第十二章 化學機械研磨 第十三章 電漿蝕刻 第十四章 微影模擬
半導體產業概論
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