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內容簡介
本書以氣Åé分子作為一種¡y工具¡z來切入微奈米加工的物理¡B化學原理Á¿¸Ñ¡A並且不以半導Åé元件或大學程度的¹q磁學為前提¡A¦Ó以°ª中層級的物理Á¿¸Ñ¡A特別以¯à理¸Ñ力學系統»â域的知ÃÑ為«ÂI¡C對現¶H的物理模型以數學式描z¡A可幫助原理的理¸Ñ¡F«n的數學式和概念清楚»¡明強½Õ¡A並對應到ªþ¿ý中¶i¦æ¸Ñ»¡¡C且對於將來¶i¦æ¶i¶¥專業等的發展學習研究時¡A基礎技³N人員也¯à獨立學習¦Ó有相當成效¡C本書¾A用機械系¡B材料系¡B¸ê°T系¡B¹q子相Ãö科系¡A或對¡y微奈米加工學¡z有¿³½ìªÌ皆可研Ū¡C
目¿ý
第一章 導½× 第二章 真空和氣Åé分子動力學 2.1前¨¥ 2.2真空和狀態方程式 2.2.1何¿×真空 2.2.2理想氣Åé和氣Åé性½è 2.3氣Åé的壓力和內³¡¯à¶q 2.3.1壓力和分子³t度 2.3.2氣Åé的內³¡¯à¶q 2.4全壓和分壓 2.5氣Åé分子³t度的分佈定律 2.5.1Maxwell-Boltzmann分佈 2.5.2³q¹L單位±積的分子數 2.5.3¾l弦定律 2.6平均¦Û由¸ô徑和碰撞機率 2.6.1平均¦Û由¸ô徑 2.6.2碰撞機率 2.6.3混合氣Åé的平均¦Û由¸ô徑 2.7真空中的氣流 2.7.1ÂH性流和分子流 2.7.2氣導 2.7.3排氣¶q和排氣³t度 2.7.4氣Åé添加和壓力控制¡A平均停留時¶¡ 2.8真空³]備 2.8.1真空容器和管¸ô 2.8.2真空泵浦 第三章 ¹q漿的基礎 3.1前¨¥ 3.2何¿×¹q漿 3.2.1¹q漿中的粒子狀態 3.2.2¹q磁場中的帶¹q粒子¹B動 3.3¹q子和氣Åé分子的碰撞¹L程 3.3.1彈性碰撞和«D彈性碰撞 3.3.2碰撞¹L程 3.3.3碰撞截±積 3.4接IJ物Åé的¹q漿構³y 3.5¹q漿³]備和¹q漿的內³¡現¶H 3.5.1直流¹q漿 3.5.2°ªÀW¹q漿 3.5.3微細加工用的新¹q漿 第四章 物理»]Áá法(PVD) 4.1前¨¥ 4.2真空»]Áá法 4.2.1»]發和»]Áá 4.2.2真空»]Áá源和各種»]Áá法 4.2.3真空»]Áá法的特徵 4.3濺Áá法 4.3.1何¿×濺Áá法 4.3.2濺Áá法的沉積¹L程 4.3.3濺Áá沉積³]備 4.3.4其它的濺Áá沉積法 第五章 Á¡½¤的形成¹L程 5.1前¨¥ 5.2Á¡½¤成ªø»P其ªí± 5.2.1原子沉積和½¤的型態 5.2.2Á¡½¤ªí± 5.3晶核的產生 5.3.1以平¿Å理½×¸ÑÄÀ 5.3.2晶核產生的³t度理½× 5.4Á¡½¤組織的發展 5.4.1島的成ªø和結合 5.4.2多晶Á¡½¤組織的發展 5.4.3磊晶成ªø 第六章 »k刻 6.1前¨¥ 6.2»k刻加工的分Ãþ 6.3濕»k刻 6.3.1等向性»k刻 6.3.2異向性»k刻 6.4物理性乾»k刻 6.5化學性乾»k刻 6.5.1熱反應性化學»k刻 6.5.2¹q漿»k刻 6.5.3光化學»k刻和¹q²ü累積 6.6物理+化學性乾»k刻 6.6.1反應性Â÷子»k刻(RIE) 6.6.2其它的Â÷子»²助»k刻法 第七章 微影 7.1前¨¥ 7.2微影概z 7.3光ªý»s程 7.3.1光ªý材料 7.3.2塗佈»s程 7.4光罩 7.4.1光罩材料 7.4.2光罩圖案的³]p 7.5曝光 7.5.1曝光³]備 7.5.2光源 ªþ¿ýA基本常數ªí和真空單位 ªþ¿ýB材料科學相Ãö的°Oz ªþ¿ýC分佈函數和Maxwell-Boltzmann分佈 ªþ¿ýD對數刻度和對數圖參¦Ò文獻索引
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