作者簡介

葉國光

　　青輝半導體股份有限公司 總經理

　　葉老師畢業於國立清華大學核子工程與工程物理研究所，後赴日本名古屋工業大學奈微米元件中心（Nano-Micro device center）深造，在半導體行業沉澱凝練27年（1998~2025），主要研究方向為化合物半導體元件與ALD、ALE原子層沉積與蝕刻技術，在LED、LD、HEMT、VCSEL的晶片開發和ALD、ALE設備技術等領域具有非常權威的專長；葉老師曾擔任華南理工大學（SCUT）材料科學研究所客座教授、芬蘭派科森納米科技公司（Picosun Oy）中國區負責人，在芬蘭公司期間，葉老師積極引進芬蘭ALD技術至台灣和中國大陸，與兩岸多所頂尖大學、科研中心和高科技公司成立聯合實驗室，加速ALD技術在兩岸的普及，推動半導體設備與製程技術升級；葉老師目前任職青輝半導體株式會社董事總經理，積極引進日本半導體設備技術至台灣，推動台灣半導體設備本土化製造；在學術方面，葉老師在東南大學（SEU）積體電路學院擔任兼職教授與研究生導師，也受邀在上海電力大學（SHIEP）與達拉斯浸會大學（DBU）擔任特邀教授，培養兩岸的半導體設備製造與製程技術人才。

唐元亭

　　大學就讀於華中科技大學物理學院，2017年獲理學學士學位，並保送至華中科技大學材料科學與工程學院攻讀材料學博士，於2024年取得工學博士學位。主要研究方向包括原子層沉積、選擇性原子層沉積技術開發，以及微奈米材料的設計與構築。已於《Nature Communications》、《Applied Catalysis B: Environmental and Energy》、《Journal of Catalysis》等國際期刊發表論文16篇，總引用次數超過470次。

葉晏瑋

　　碩士與博士期間就讀於國立交通大學電機學院光電工程系，主要研究方向為原子層沉積與半導體光電元件。2019年取得碩士學位後，曾於國內半導體設備商從事薄膜製程研發工作（2020年至2022年）。2022年取得博士學位後，進入記憶體製造公司，從事薄膜製程相關技術研發工作。