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半導體製程設備(4版1刷)
作者：
張勁燕
分類：
參考•考試•教科書
／
大專學院教科書
出版社：
五南文化
出版日期：2009/9/1
ISBN：9789571152509
書籍編號：kk0249185
頁數：600
定價：
720
元
優惠價：
9
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648
元
書價若有異動，以出版社實際定價為準
暫停販售
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分
享
內容簡介
作者介紹
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半導體製程設備(4版1刷) 半導體元件由矽土製成矽晶圓， 再經數百個製程步驟，才製作出256M級的DRAM。這期間所使用的機器，主要的也不過十數種。晶圓成長爐、磊晶反應器、步進照像儀、化學氣相沉積爐、氧化和擴散高溫爐、離子植入機、乾蝕刻機、電子束蒸鍍機、濺鍍機、化學機械研磨機等。以及封裝製程設備、真空幫浦及系統洗淨機器等主要支援設備。本書對這些機器的構造和操作原理都有詳盡的敘述。 砷化鎵Ⅲ–Ⅴ化合物半導體製程，如金屬有機化學氣相沉積爐、分子束磊晶和銅製程使用設備、低介電常數介電製作設備以及一些2000千禧年推出的新機器，也都在本書有詳盡的敘述，次世代先進的製程設備也有一些介紹。 本書是編著者累積多年經驗、費時一年而完成的。期望能給想從事半導體業的同學們一項內容豐富有力的教科書。給業界的工程師、研究生、教授老們一項便捷的參考。 目錄 第1章 晶體成長和晶圓製作 第2章 磊晶沉積設備 第3章 微影照相設備 第4章 化學氣相沉積爐 第5章 氧化擴散高溫爐 第6章 離子植入機 第7章 乾蝕刻機 第8章 蒸鍍機 第9章 濺鍍機 第10章 化學機械研磨 第11章 真空泵和真空系統 第12章 濕洗淨和乾洗淨製程設備 第13章 封裝製程設備
電工法規(第五版)
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